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第四百六十九章光刻机

新开发新的光源和镜头,简直是难以上天,可是对于秦元清而言,简直是太简单不过了。
    光波那么多种,EUV光源波长13.5nm,制程节点7~3nm。完全可以选择其他光源,波长进一步缩短,制程节点缩短到1nm。
    而1nm制程,就是硅芯片的理论界限。
    可别忘了,那是硅芯片,碳基芯片可不是如此,同样制程的情况下,碳基芯片可比硅基芯片先进得多。甚至于,碳基芯片可以达到0.1nm!
    秦元清怎么想也想不明白,华夏已经提交了一批量子计算机,怎么会有人认为华夏搞不出高端光刻机以及做出高端芯片呢。
    略微思索了一下,秦元清兑换了ASML的光刻机全套技术,然后稍微一研究,从光源、镜头上稍作改进后,新的光刻机技术就比如今ASML最先进的光刻机还要先进许多。
    这种最先进的光刻机,制程可以达到1nm,可以说把ASML的EUA光刻机甩出一大截。
    “哪怕没有碳基芯片这个大杀器,光靠这光刻机制造出出的1nm芯片,就足以将ASML扫入历史的垃圾堆。”秦元清对此充满着信心,仿佛看到一家市值超过3000亿美元的科技巨头,再次上演了诺基亚帝国崩塌的一幕,稀里糊涂、
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